VNX55EP (大水量連續去離子模塊-UPW)

產品說明

VNX50EP膜堆產水流量為 55.0gpm / 12.5m³/h，是大水量 CEDI 系统的絕佳選擇 。

進水要求水質<10us/cm(請詳閱型錄)

回收率高達98.5～99%。

2PASS RO 產水水質>17.5 megohm-cm

DI Water     產水水質> 18 megohm-cm

針對大流量CEDI系統設計的VNX膜堆，使系統設計施工上更加簡易，相對的系統的造價成本也會明顯的降低。

VNX運用於半導體,光電,電廠等需要大量去離子水的行業。

VNX作為一種清潔、對環境友好的技術，相對需要化學藥劑再生的混床更有優勢。

採用大流量的CEDI膜堆可以使系統的配管更少，系統設計施工更加簡單。

 

產品特性如下：

Silica (SiO2) Removal ≥ 95%
Boron (B) Removal ≥ 95%
Sodium (Na) Removal 99.8%
Chloride (Cl) Removal 99.8%

• 不需要化學藥劑再生

• 雙O型止水環密封，保證不洩漏

• 無須注鹽系統

• 可在100psi（7bar），113F(45C)環境下連續運行

• 全填充式專利設計

• 低的運行成本